Màquina de polir mecànica i química tipus IDP

Cada placa de pressió de la màquina de polir mecànica química de la sèrie CP amb conducció independent de la placa de pressió està impulsada per un servoreductor independent. A diferència de la manera en què la màquina CP impulsada per rodets de guia central es mou per fricció, la màquina CP de conducció independent de la placa de pressió pot realitzar un control precís de la velocitat de la placa de pressió. Al mateix temps, a causa de l'estructura d'evitar el contacte de fricció a la zona de poliment, es redueix la generació de partícules de cristall de purí de poliment, per tant, es redueix la probabilitat de contaminació de partícules i rascades a la superfície de l'hòstia; La velocitat de rotació de cada placa de pressió de la màquina IDP es pot configurar per separat. D'acord amb les característiques del cilindre de pressurització de cada placa de pressió, el processament resulta en una diferència gairebé nul·la entre diferents plaques de pressió mitjançant un ajust fi de la velocitat de rotació de les plaques de pressió.

Per a màquines IDP amb grans dimensions, el posicionament i la commutació d'estació de plaques ceràmiques es pot realitzar afegint dispositius de rodets de guia interns i externs, per tal de realitzar la càrrega i descàrrega en una estació. També pot realitzar la connexió de múltiples màquines integrant el manipulador per formar una línia de producció automàtica.

Màquina de polir mecànica química de la sèrie IDP TYPE CP

Etiquetes populars: Màquina de polir mecànica química tipus idp, fabricants, proveïdors, fàbrica de màquines de polir mecànica química tipus idp de la Xina